CN EN

© 2022 WIO NEW MATERIAL. All Rights Reserved.

HF acid-resistant protective film

应用于玻璃蚀刻、二次强化、切割…等制程。  

Product features

  • 具备优异的黏着性、可再剥性以及良好的包覆性;

  • 150um 的基材厚度可以提供良好的支撑性,便于进行裁切及贴合等加工。


    Product mix

    抗氢氟酸保护膜(图1)

    Product parameters

    抗氢氟酸保护膜(图1)

    Product application

    LED及半导体芯片切割时表面保护,半导体或LED封装保护